西门子edi模块硅去除率是多少？

西门子 EDI 模块（以主流 IONPURE LX 系列为代表，含 IP-LXM45Z、IP-LXM10X 等型号）的硅（以 SiO₂计）去除率为 90%-99%，主要取决于进水条件。在满足进水水质要求的前提下，若进水硅含量≤1.0ppm（RO 产水标准），产水硅可稳定降至 0.01-0.1ppm 以下；针对半导体、制药等高端场景的专用型号（如 IP-LXM10X），硅去除率可进一步提升至 95% 以上，产水硅含量控制在 0.05ppm 以内，完全满足工业超纯水制备需求。

一、硅去除率的技术原理：为何西门子 EDI 能实现高效脱硅？

西门子 EDI 模块采用连续电去离子（CEDI）技术，其硅去除能力源于离子交换树脂、离子交换膜与电场的协同作用，核心机制如下：

1.离子化转化与吸附：水中的硅主要以活性硅（硅酸）形式存在，在 EDI 模块的电场环境中，硅酸发生电离生成 SiO₃²⁻等带电离子，被填充在浓水室的离子交换树脂吸附捕获；

电场迁移与截留：通过施加直流电场（电压 0-400V，电流 1-6A），带电硅离子在电场力作用下向对应电极迁移，被离子交换膜（阳离子膜、阴离子膜）选择性截留于浓水室，最终随浓水排出；

2.专利结构强化脱除：LX 系列模块采用 “全填充” 浓水室设计，无死角的树脂填充结构扩大了离子吸附面积，配合厚隔板与双 O 型圈密封，避免水流短路导致的硅泄漏，进一步提升去除效率。

需特别说明：硅的化学性质特殊，中性 pH 条件下（7.0 左右）几乎不带电，难以被常规工艺去除。西门子 EDI 通过优化电场强度与树脂配比，即使在 pH 4-11 的宽范围进水条件下，仍能高效转化并截留硅离子，解决了传统工艺的脱硅难题。

二、常见误区与优化建议

误区 1：认为 EDI 模块可直接处理高硅原水 —— 正确做法：必须经 RO 预处理将硅降至 1.0ppm 以下，必要时在 RO 系统前增设软化或除硅预处理单元；

误区 2：追求过高回收率而牺牲脱硅效果 —— 优化方案：根据进水硅含量调整回收率，高硅进水（0.8-1.0ppm）时，回收率控制在 90% 为宜；

误区 3：忽视清洗导致硅去除率持续下降 —— 解决措施：当产水硅含量上升 10% 或电阻率低于 10MΩ・cm 时，及时用专用清洗剂（如碱性清洗剂）清洗模块。

所以，西门子 EDI 模块的 90%-99% 硅去除率，是其专利技术、结构设计与工艺适配性的综合体现，核心依赖 “优质进水 + 精准运行 + 规范维护” 的三重保障。在工业超纯水制备中，无论是半导体、电力还是制药行业，只要严格遵循技术要求，即可实现稳定高效的脱硅效果，为生产工艺提供高纯度水质保障。

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